型号（Model）：JGP450

生产商（Manufacturer）：中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司

用途（Applications）：用于氧化物以及金属薄膜的制备（To fabricate oxide and metal thin films）

主要参数（Main Parameters）：
极限真空度（Ultimate pressure）：6×10-6 Pa
最高加热温度（Substrate temperature）：～800 °C

负责人（Responsible persons）：
诸葛飞（Dr. Fei Zhuge）Tel：86685019