型 号（Model）: RTP500V

生产商（Manufacturer): 北京东之星物理研究所

Beijing East Star Research Office of Applied Physics
用 途（Applicatio）:
离子注入后快速退火；欧姆接触快速合金；硅化物合金退火；氧化物生长；其它快速热处理工艺。
Rapid Thermal Anneal (RTA), Rapid Thermal Oxidation (RTO), Rapid Thermal Nitridation (RTN), Rapid Thermal Diffusion (RTD), Silicides and Contact formation

主要参数（Main Parameters):
温度范围（Temperature Range）：150~1300℃
最大升温速率（Maximum Rate）：200℃/s
样品最大尺寸（Maximum Sample Size）：4 inch
气氛（Atmosphere）：Vacuum（0.1Pa）、H2、N2、Ar、O2

负 责 人（Person in Charge:
杨晔, ( Dr. Ye YANG ) , Tel：86685162
黄金华,(Dr. Jinhua HUANG), Tel: 86685130